欢迎访问《陶瓷学报》官方网站
ISSN 2095-784XCN 36-1205/TS
陶瓷学报
JOURNAL PORTAL
景德镇陶瓷大学主办
烧结技术与氯化硅陶瓷显微结构研究
葛其明
陈源
董良金
黄莉萍
[1] 中国科学院上海硅酸盐研究所
[2] 中国科学院上海硅酸盐研究所!
陶瓷学报 1997年 / 02期96-101
10 次引用
摘要
本文以编号为SPN氨化硅与编号为M(20)、M(50)的Sialon材料为例在无压烧结、气压烧结和热等静压烧结等工艺条件下进行烧结，测试了材料性能，用SEM、EM和X折射等分析手段观察材料的显微结构和相组成，及其对材料性能的影响进行了讨论。
关键词
氮化硅陶瓷烧结技术显微结构
参考文献
共0条正在加载参考文献...
版权声明
本文版权归编辑部所有。未经书面授权，不得转载、摘编或利用其他方式使用本文内容。