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景德镇陶瓷大学主办
[1] 常州工程职业技术学院材料工程技术系
[2] 中国科学院上海硅酸盐研究所
为了改善RBSiC陶瓷反射率较低的情况,利用RF磁控溅射法在RBSiC基底表面涂覆一层结构致密的PVDSiC涂层。采用XRD表征了PVDSiC涂层的晶化程度。利用AFM和表面轮廓仪观察了RBSiC基底和PVDSiC涂层抛光后的表面形貌和表面粗糙度,并在可见光和红外波段测量了反射率。结果表明,当采用PVDSiC涂层对RBSiC基底表面改性后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度Ra为0.809nm,反射率提高约为2%,最高可达99.2%,改性效果明显。PVDSiC涂层有望在可见光和红外波段获得实际应用。
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