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陶瓷

陶瓷

Ceramics

CMP抛光用纳米氧化铝制备工艺研究

杨丛林[1]
孙计赞[2]
刘胜[2]

[1] 中铝山东有限公司

[2] 淄博海关

陶瓷 2021年 / 08期35-36
DOI：10.19397/j.cnki.ceramics.2021.08.007
5 次引用

摘要

本研究以中铝山东有限公司Al2（SO4）3原料,通过与NH4HCO3沉淀反应,在pH=5.5～6.0、温度25℃条件下制得纳米级前驱体无定型前驱体,前驱体经1 200℃焙烧制得粒径300 nm氧化铝。为CMP抛光用高端超细氧化铝粉体的制备提供可行的技术路线。

关键词

无定型纳米氧化铝CMP抛光

参考文献

共0条
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